用于外延工艺的反应腔室及外延设备

授权

摘要

本实用新型提供一种用于外延工艺的反应腔室及外延设备，其中，用于外延工艺的反应腔室包括腔体及设置在腔体相对两侧的进气模块和排气模块，进气模块包括进气通道，排气模块包括排气通道，排气通道的进气口与进气通道的出气口相对设置，排气通道的出气口的数量与进气通道的出气口的数量相同，且一一对应地设置，并且排气通道的各出气口在第一方向上的长度与对应的进气通道的各出气口在第一方向上的长度一致，第一方向与气体流动方向垂直，且第一方向与气体流动方向二者共平面。本实用新型提供的用于外延工艺的反应腔室及外延设备能够提高工艺气体在腔体中各区域流动的稳定性，从而提高工艺效果。

基本信息

专利标题：

用于外延工艺的反应腔室及外延设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020636385.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-04-24

授权号：

CN213144954U

授权日：

2021-05-07

发明人：

赵万辉

申请人：

北京北方华创微电子装备有限公司

申请人地址：

北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司

代理人：

彭瑞欣

优先权：

CN202020636385.1

主分类号：

F15D1/00

IPC分类号：

F15D1/00 F16L39/00 H01L21/67