一种分子束外延生长表面监测装置
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

本实用新型提供一种分子束外延生长表面监测装置,涉及半导体制造技术领域。该监测装置包括:激光光源、线偏振器、分子束外延生长室腔体、光信号探测组件、数据处理组件;线偏振器包括第一线偏振器和第二线偏振器;第一线偏振器设置在激光光源与入光口之间;第二线偏振器设置在出光口与光信号探测组件之间,并且第二线偏振器的偏振轴方向与第一线偏振器的偏振轴方向对应设置。在实现原位监测的光路上,通过在激光光源之后设置第一线偏振器以产生线偏振光,在光信号探测组件之前设置第二线偏振器以透过从出光口出射的线偏振光,经外延片表面反射的线偏振光没有损失,同时抑制了生长室内部组件发出的部分噪声光的透过,提高了光信号探测的信噪比。

基本信息
专利标题 :
一种分子束外延生长表面监测装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020540945.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-14
授权号 :
CN211295044U
授权日 :
2020-08-18
发明人 :
郭帅冯巍
申请人 :
新磊半导体科技(苏州)有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市高新区建林路666号出口加工区配套工业园28号厂房
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202020540945.3
主分类号 :
H01L21/66
IPC分类号 :
H01L21/66  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/66
在制造或处理过程中的测试或测量
法律状态
2021-12-07 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : H01L 21/66
变更事项 : 专利权人
变更前 : 新磊半导体科技(苏州)有限公司
变更后 : 新磊半导体科技(苏州)股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 215151 江苏省苏州市高新区建林路666号出口加工区配套工业园28号厂房
变更后 : 215151 江苏省苏州市高新区建林路666号出口加工区配套工业园28号厂房
2020-08-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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