一种基于双材料效应的微机械红外探测器阵列的制作方法
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摘要
本发明涉及一种新的基于双材料效应的微机械红外探测器阵列的制作方法，其特征在于采用硅作为牺牲层，采用SiO2、SiNx、SiC、Au、Al及Cr等XeF2气体几乎不腐蚀的材料来制作像素的双材料支撑梁和红外敏感部分，采用SiO2、SiNx、SiC、Au、Al及Cr等XeF2气体几乎不腐蚀的材料制作锚或对锚进行保护，最后采用XeF2气体腐蚀硅牺牲层释放像素。本发明具有以下积极效果和优点：一方面采用干法释放，避免湿法释放过程对像素结构的破坏；另一方面，降低了制作成本且与IC工艺相兼容。
基本信息
专利标题 ：
一种基于双材料效应的微机械红外探测器阵列的制作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1819291A
申请号 ：
CN200510112299.0
公开（公告）日 ：
2006-08-16
申请日 ：
2005-12-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
冯飞熊斌杨广立王跃林
申请人 ：
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
申请人地址 ：
200050上海市长宁区长宁路865号
代理机构 ：
上海智信专利代理有限公司
代理人 ：
潘振甦
优先权 ：
CN200510112299.0
主分类号 ：
H01L35/34
IPC分类号 ：
H01L35/34 G01J5/12 B81C1/00
法律状态
2008-10-01 ：
授权
2006-10-11 ：
实质审查的生效
2006-08-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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