对掩模除垢的方法

专利申请权、专利权的转移

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摘要

本发明提供了一种快速并有效地去除附于掩模的材料的对掩模除垢的方法。该方法包括：将激光束直射到附于掩模的材料上；去除附于掩模的材料。

基本信息

专利标题：

对掩模除垢的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1776524A

申请号：

CN200510123311.8

公开（公告）日：

2006-05-24

申请日：

2005-11-17

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

金义圭金泰亨

申请人：

三星SDI株式会社

申请人地址：

韩国京畿道

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司

代理人：

郭鸿禧

优先权：

CN200510123311.8

主分类号：

G03F1/00

IPC分类号：

G03F1/00 B08B3/08 B08B3/12

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F1/00

用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备

法律状态

2012-12-12 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101484149373
IPC(主分类) : G03F 1/00
专利号 : ZL2005101233118
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 三星移动显示器株式会社
变更后权利人 : 三星显示有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 韩国京畿道
变更后权利人 : 韩国京畿道龙仁市
登记生效日 : 20121112

2011-02-16 ：

授权

2009-02-18 ：

专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)

变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 三星SDI株式会社
变更后权利人 : 三星移动显示器株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 韩国京畿道
变更后权利人 : 韩国京畿道
登记生效日 : 20090116

2008-01-02 ：

实质审查的生效

2006-05-24 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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