具有体接触窗的鳍状场效晶体管及其制造方法
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摘要
一种具有体接触窗的鳍状场效晶体管及其制造方法，该场效晶体管包括鳍状通道、源极、汲极、体接触窗、闸介电层与闸极。源极与汲极与鳍状通道的两端相接，体接触窗位于鳍状通道的一侧并藉由导线与其相接。闸介电层覆在鳍状通道的表面，而闸极位于鳍状通道的另一侧，并跨越其上。该场效晶体管的制造方法包括：形成绝缘层与半导体层，图案化半导体层以形成T形通道，同时形成源极、汲极与体接触窗分别于T形通道的三个端点上，源极与汲极位于T形通道的横向通道的相对两端点上。形成闸介电层于T形通道、源极、汲极与体接触窗上，形成导电层。图案化导电层以形成闸极跨越于T形通道的横向通道上，闸极与体接触窗分别位于T形通道的横向通道的两侧。
基本信息
专利标题 ：
具有体接触窗的鳍状场效晶体管及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1979892A
申请号 ：
CN200510124395.7
公开（公告）日 ：
2007-06-13
申请日 ：
2005-11-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
杨国男詹宜陵陈豪育杨富量胡正明
申请人 ：
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址 ：
台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号
代理机构 ：
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
寿宁
优先权 ：
CN200510124395.7
主分类号 ：
H01L29/78
IPC分类号 ：
H01L29/78 H01L21/336
法律状态
2009-01-07 ：
授权
2007-08-08 ：
实质审查的生效
2007-06-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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