制作悬浮结构的方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明公开了一种制作悬浮结构的方法。首先提供基底，且该基底的正面依序包含有牺牲层与结构层。随后在该基底的背面形成开口，且该开口暴露出部分该牺牲层。接着进行湿法蚀刻工艺，经由该开口蚀刻该牺牲层以使该结构层形成悬浮结构。最后进行气体喷射工艺，利用气体经由该开口对该悬浮结构进行喷射，以避免该悬浮结构与该基底沾黏。
基本信息
专利标题 ：
制作悬浮结构的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1970433A
申请号 ：
CN200510126812.1
公开（公告）日 ：
2007-05-30
申请日 ：
2005-11-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
周尧天刘娉婷
申请人 ：
探微科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾桃园县
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陶凤波
优先权 ：
CN200510126812.1
主分类号 ：
B81C1/00
IPC分类号 ：
B81C1/00
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B81
微观结构技术
B81C
专门适用于制造或处理微观结构的装置或系统的方法或设备
B81C1/00
在基片内或其上制造或处理的装置或系统
法律状态
2011-03-23 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101076735185
IPC(主分类) : B81C 1/00
专利申请号 : 2005101268121
公开日 : 20070530
号牌文件序号 : 101076735185
IPC(主分类) : B81C 1/00
专利申请号 : 2005101268121
公开日 : 20070530
2007-07-25 ：
实质审查的生效
2007-05-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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