本发明实施例提供一种测试结构及其制作方法，测试结构的制作方法包括：提供基底，并在所述基底上形成依次层叠的栅介质膜和导电膜；至少对所述导电膜进行图案化刻蚀，以形成位于所述基底上的多个分立的栅极结构，在所述栅极结构的排列方向上，相邻所述栅极结构之间的间距小于等于110nm；形成位于所述栅极结构相对两侧的隔离侧墙；以所述栅极结构和所述隔离侧墙为掩膜，向所述基底内注入掺杂离子，形成掺杂区，在垂直于所述基底表面的方向上，所述掺杂区的掺杂深度与所述基底顶面的间距小于10nm。本发明实施例有利于保证掺杂区电阻测试的准确性和有效性。