基板处理装置

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明提供一种基板处理装置，其具有：分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、清洗处理区以及接口区。以相邻于接口区的方式配置曝光装置。清洗处理区具有清洗处理部。在抗蚀膜用处理区中，在基板上形成抗蚀膜。在曝光装置中对基板进行曝光处理之前，在清洗处理部中进行基板的清洗以及干燥处理。

基本信息

专利标题：

基板处理装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1786829A

申请号：

CN200510129567.X

公开（公告）日：

2006-06-14

申请日：

2005-12-06

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

安田周一金冈雅金山幸司宫城聪茂森和士浅野彻鸟山幸夫田口隆志三桥毅奥村刚

申请人：

大日本网目版制造株式会社

申请人地址：

日本京都府

代理机构：

隆天国际知识产权代理有限公司

代理人：

高龙鑫

优先权：

CN200510129567.X

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/027 G03F7/26

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2009-07-15 ：

发明专利申请公布后的视为撤回

2007-05-23 ：

专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移

变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 大日本网目版制造株式会社
变更后权利人 : 株式会社迅动
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本京都府
变更后权利人 : 日本京都
登记生效日 : 20070427

2006-08-09 ：

实质审查的生效

2006-06-14 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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