带有色要素膜基板的制造方法及带有色要素膜基板
专利权的终止
摘要
一种带有色要素膜基板的制造方法,包括:在支撑基板(12)上将第1层(13)及具有光硬化性的第2层(14)以该顺序层叠,经过曝光、显影,将第1层(13)及第2层(14)的一部分除去,将其剩余部分作为堤堰(16)的堤堰形成工序、向由堤堰划分出的分区中赋予色要素膜形成用的液状材料的液状材料赋予工序、通过使赋予分区的液状材料硬化或固化而形成色要素膜的色要素膜形成工序,第1层(13)可溶于显影的显影液中,第2层(14)可溶于显影液中,并且与第1层(13)相比向显影液中的溶解速度更慢,利用显影,使第2层(14)的剩余部分的宽度大于第1层(13)的剩余部分的宽度,形成堤堰。
基本信息
专利标题 :
带有色要素膜基板的制造方法及带有色要素膜基板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1797211A
申请号 :
CN200510133820.9
公开(公告)日 :
2006-07-05
申请日 :
2005-12-21
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
片上悟
申请人 :
精工爱普生株式会社
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
李香兰
优先权 :
CN200510133820.9
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20 H01L21/027 G02B5/20 H01L27/28
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2013-02-27 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101399118208
IPC(主分类) : G02B 5/20
专利号 : ZL2005101338209
申请日 : 20051221
授权公告日 : 20090610
终止日期 : 20111221
号牌文件序号 : 101399118208
IPC(主分类) : G02B 5/20
专利号 : ZL2005101338209
申请日 : 20051221
授权公告日 : 20090610
终止日期 : 20111221
2009-06-10 :
授权
2006-08-30 :
实质审查的生效
2006-07-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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