光伏衬底沉积中的压力控制系统
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明包括一种用于将薄层沉积在衬底上以用于生产光伏电池的设备,其中通过低压隔离区域使个别反应室彼此分离,所述低压隔离区域防止相邻反应室的交叉污染,并控制每一反应室中的压力水平,同时允许在没有任何机械障碍的情况下将衬底从一个反应室不间断地转移到下一反应室。
基本信息
专利标题 :
光伏衬底沉积中的压力控制系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101233260A
申请号 :
CN200580043391.4
公开(公告)日 :
2008-07-30
申请日 :
2005-11-10
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
约翰·R·塔特尔
申请人 :
德斯塔尔科技公司
申请人地址 :
美国纽约州
代理机构 :
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 :
王允方
优先权 :
CN200580043391.4
主分类号 :
C23C16/00
IPC分类号 :
C23C16/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
法律状态
2010-08-25 :
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101006990250
IPC(主分类) : C23C 16/00
专利申请号 : 2005800433914
公开日 : 20080730
号牌文件序号 : 101006990250
IPC(主分类) : C23C 16/00
专利申请号 : 2005800433914
公开日 : 20080730
2008-09-24 :
实质审查的生效
2008-07-30 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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