衬底承载板和沉积设备
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种衬底承载板和沉积设备。衬底(4)安装到衬底承载板(3)的抬高的衬底支撑体(31)上。然后，具有衬底的衬底承载板放置到等离子反应器(8)中。由于抬高的衬底支撑体，衬底的两个相对面暴露于等离子体(6)，并且因此被包覆有电钝化层(7)。
基本信息
专利标题 ：
衬底承载板和沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200820125314.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2008-07-04
授权号 ：
CN201266602Y
授权日 ：
2009-07-01
发明人 ：
M·库诺K·阿库拉蒂A·齐默曼R·杰维斯
申请人 ：
ABB技术有限公司
申请人地址 ：
瑞士苏黎世
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
王茂华
优先权 ：
CN200820125314.4
主分类号 ：
H01L21/683
IPC分类号 ：
H01L21/683 H01L21/00 C23C16/458 C23C16/44 C23C16/26
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2018-07-27 ：
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : H01L 21/683
申请日 : 20080704
授权公告日 : 20090701
申请日 : 20080704
授权公告日 : 20090701
2018-06-15 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : H01L 21/683
登记生效日 : 20180528
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : ABB技术有限公司
变更后权利人 : ABB瑞士股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 瑞士苏黎世
变更后权利人 : 瑞士巴登
登记生效日 : 20180528
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : ABB技术有限公司
变更后权利人 : ABB瑞士股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 瑞士苏黎世
变更后权利人 : 瑞士巴登
2009-07-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
CN201266602Y.PDF
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