一种用于金刚石膜沉积的衬底预处理支架

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摘要

本实用新型公开了一种用于金刚石膜沉积的衬底预处理支架，包括端盖、腔体、吸盘、支撑架、密封垫、开度控制装置、进气孔、抽气孔、连接腔、密封槽、吸盘连接孔、螺杆、开度块和连接块。该对沉积金刚石膜的衬底超声预处理时的衬底支架，端盖的上端面设置有进气孔和抽气孔，所述进气孔和抽气孔设置为对称结构，利用气压差，使基底在外部的气压的作用下，紧贴支架上，使衬底稳定悬于悬浊液中，衬底的每部分受到均匀处理，并且在处理的数量上有很大的提高，具有很好的应用前景，同时该装置简单且易于生产，降低使用成本。

基本信息

专利标题：

一种用于金刚石膜沉积的衬底预处理支架

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021298462.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-07-06

授权号：

CN212451623U

授权日：

2021-02-02

发明人：

高冀芸王访贾丽娟刘晨辉刘天成夏福婷

申请人：

云南民族大学

申请人地址：

云南省昆明市呈贡区月华街2929号云南民族大学

代理机构：

北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

谢秀娟

优先权：

CN202021298462.3

主分类号：

C23C16/02

IPC分类号：

C23C16/02 C23C16/27 C23C14/02 C23C14/06