一种用于金刚石膜沉积工艺的基片超声预处理支架
授权
摘要
本实用新型公开一种用于金刚石膜沉积工艺的基片超声预处理支架，包括腔体，腔体的顶面上插接有气管，腔体的底面上固定有支架，腔体内设有相互垂直的两条气路，两条气路位于同一平面上，两条气路连通，气管伸入腔体连通两条气路的连接处，气路的两端分别插接在腔体上对称的两个侧壁上，腔体的侧壁上开设有衬底卡槽，衬底卡槽的底壁上开设有密封槽，密封槽内嵌设有密封垫，气路的端部贯穿密封垫，本实用新型一可以使衬底悬于悬浊液中，二可提高衬底每部分处理的均匀性，还可根据需要选择最佳的处理角度，在处理衬底的数量上有很大的提高，因此本实用新型使得沉积金刚石的衬底超声预处理工序更加快速，高效，均匀，对衬底无划伤。
基本信息
专利标题 ：
一种用于金刚石膜沉积工艺的基片超声预处理支架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021282213.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-02
授权号 ：
CN212451631U
授权日 ：
2021-02-02
发明人 ：
郭胜惠朱烨杨黎冯曙光高冀芸
申请人 ：
昆明理工大学
申请人地址 ：
云南省昆明市五华区学府路253号昆明理工大学基础楼
代理机构 ：
北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
谢秀娟
优先权 ：
CN202021282213.5
主分类号 ：
C23C16/458
IPC分类号 ：
C23C16/458 C23C16/02 C23C16/27 C23C14/50 C23C14/02 C23C14/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2021-02-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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