用于二氧化硅和氮化硅层的蚀刻的可印刷介质
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明涉及在太阳能电池生产中用于表面蚀刻的具有非牛顿流动性能的新颖可印刷蚀刻介质及其用途。本发明特别涉及对应的含粒子的组合物，通过该组合物可以蚀刻高度选择性的细结构而不损害或侵蚀相邻表面。
基本信息
专利标题 ：
用于二氧化硅和氮化硅层的蚀刻的可印刷介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101098833A
申请号 ：
CN200580046197.1
公开（公告）日 ：
2008-01-02
申请日 ：
2005-12-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
W·斯托库姆A·屈贝尔贝克S·克莱因
申请人 ：
默克专利股份有限公司
申请人地址 ：
德国达姆施塔特
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
刘明海
优先权 ：
CN200580046197.1
主分类号 ：
C03C15/00
IPC分类号 ：
C03C15/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C03
玻璃；矿棉或渣棉
C03C
玻璃、釉或搪瓷釉的化学成分；玻璃的表面处理；由玻璃、矿物或矿渣制成的纤维或细丝的表面处理；玻璃与玻璃或与其他材料的接合
C03C15/00
纤维和丝之外的蚀刻法玻璃表面处理
法律状态
2014-11-26 ：
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101707506337
IPC(主分类) : C03C 15/00
专利申请号 : 2005800461971
申请公布日 : 20080102
号牌文件序号 : 101707506337
IPC(主分类) : C03C 15/00
专利申请号 : 2005800461971
申请公布日 : 20080102
2008-03-12 ：
实质审查的生效
2008-01-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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