保护层、其形成材料和方法以及含该保护层的PDP

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

一种保护层，其由氧化镁形成并且包含至少一种附加组分，所述附加组分选自：选自铜和氧化铜的铜组分、选自镍和氧化镍的镍组分、选自钴和氧化钴的钴组分以及选自铁和氧化铁的铁组分；一种用于形成该保护层的复合材料；一种形成该保护层的方法；以及一种包含该保护层的等离子显示板。所述保护层，应用在PDP中，保护电极和介电层不受Ne和Xe，或者He、Ne和Xe构成的混合气体产生的等离子体离子，并且放电延迟时间和放电延迟时间对于温度的依赖性均可降低以及抗溅射性增强。

基本信息

专利标题：

保护层、其形成材料和方法以及含该保护层的PDP

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1825522A

申请号：

CN200610004029.2

公开（公告）日：

2006-08-30

申请日：

2006-01-11

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

李玟锡崔钟书金奭基金哉赫徐淳星

申请人：

三星SDI株式会社

申请人地址：

韩国京畿道

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

范赤

优先权：

CN200610004029.2

主分类号：

H01J17/02

IPC分类号：

H01J17/02 H01J11/02 H01J17/49 H01J9/00