引线框架、包含引线框架的传感器和及其形成方法
专利权的终止
摘要
一种引线框架包括确定内部区域的框架主体、从框架主体伸出的多根引线、以及布置在内部区域内的第一和第二平台。第一和第二平台倾斜并且平行于第一线，熔融树脂的主流沿着第一线流动，以便熔融树脂到空腔内的注入基本上不改变平台的倾角。
基本信息
专利标题 ：
引线框架、包含引线框架的传感器和及其形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1821803A
申请号 ：
CN200610007055.0
公开（公告）日 ：
2006-08-23
申请日 ：
2006-02-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
白坂健一齐藤博
申请人 ：
雅马哈株式会社
申请人地址 ：
日本国静冈县
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
朱进桂
优先权 ：
CN200610007055.0
主分类号 ：
G01R33/02
IPC分类号 ：
G01R33/02
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01R
测量电变量；测量磁变量
G01R33/00
测量磁变量的装置或仪器
G01R33/02
测量磁场或磁通量的方向或大小
法律状态
2016-03-30 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101653312245
IPC(主分类) : G01R 33/02
专利号 : ZL2006100070550
申请日 : 20060214
授权公告日 : 20110706
终止日期 : 20150214
号牌文件序号 : 101653312245
IPC(主分类) : G01R 33/02
专利号 : ZL2006100070550
申请日 : 20060214
授权公告日 : 20110706
终止日期 : 20150214
2011-07-06 ：
授权
2006-10-18 ：
实质审查的生效
2006-08-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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