一种连续真空镀膜装置
专利权的终止
摘要

本实用新型是关于一种连续真空镀膜装置,包括真空镀膜机、分别密封串接在该真空镀膜机的两端若干个进件真空过渡室和若干个出件真空过渡室;该进件真空过渡室、该真空镀膜机和该出件真空过渡室之间贯通有工件输送装置;相连的真空过渡室之间、及与真空镀膜机之间均设有密封移门装置;其中,所述进件真空过渡室和所述出件真空过渡室数量相同,沿所述真空镀膜机对称的每一对该进件真空过渡室和该出件真空过渡室相互连通并连通有抽真空装置。采用上述结构后,使相应的密封移门装置的开启和相应的真空过渡室的抽真空操作可以协调、同步进行,对连续真空镀膜过程的节奏容易控制。

基本信息
专利标题 :
一种连续真空镀膜装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620016037.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-11-27
授权号 :
CN200974865Y
授权日 :
2007-11-14
发明人 :
李清明钟源
申请人 :
比亚迪股份有限公司
申请人地址 :
518119广东省深圳市龙岗区葵涌镇延安路比亚迪工业园
代理机构 :
深圳市港湾知识产权代理有限公司
代理人 :
冯达猷
优先权 :
CN200620016037.4
主分类号 :
C23C14/56
IPC分类号 :
C23C14/56  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备;维持真空的装置,例如真空锁定器
法律状态
2016-12-28 :
专利权的终止
专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101693578491
IPC(主分类) : C23C 14/56
专利号 : ZL2006200160374
申请日 : 20061127
授权公告日 : 20071114
终止日期 : 无
2007-11-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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