感光性树脂组合物及使用它的电路基板

专利权的终止

摘要

本发明涉及挠性、紫外线显影感度、碱水溶液中的显影性、室温下的保存稳定性优良的感光性树脂组合物及使用它的电路基板。该感光性树脂组合物是在具有下述(1)、(2)和(3)所示结构单元的含硅氧烷的聚酰胺酸树脂中配合光聚合引发剂而成的。该电路基板是在基板上形成该感光性树脂组合物的保护膜而形成的。式中，Ar表示芳香族四羧酸残基、R₁表示碳数1～6的烷基或苯基、R₂表示碳数2～6的亚烷基或亚苯基、l表示0～10的数、R₃表示2价基团或直接键合、R₄表示CH₂＝CH－R₆－所示基团、R₆表示直接键合、碳数1～6的亚烷基或亚苯基、R₅表示二胺残基、表示各结构单元的存在摩尔比的m为0.3～0.95、n为0.05～0.7和o为0～0.5的范围。

基本信息

专利标题：

感光性树脂组合物及使用它的电路基板

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101151579A

申请号：

CN200680010866.4

公开（公告）日：

2008-03-26

申请日：

2006-03-24

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

德久极林健太郎川里浩信

申请人：

新日铁化学株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

陈昕

优先权：

CN200680010866.4

主分类号：

G03F7/027

IPC分类号：

G03F7/027 C08F290/14 C08G73/10 G03F7/004 G03F7/075 H01L21/027 H05K3/28

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/004

感光材料

G03F7/027

具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物

法律状态

2021-03-12 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/027
申请日 : 20060324
授权公告日 : 20101006
终止日期 : 20200324

2020-01-03 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移IPC(主分类) : G03F 7/027
登记生效日 : 20191213
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 新日铁住金化学株式会社
变更后权利人 : 日铁化学材料株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京
变更后权利人 : 日本东京中央区日本桥一丁目13番1号

2013-07-10 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101627830588
IPC(主分类) : G03F 7/027
专利号 : ZL2006800108664
变更事项 : 专利权人
变更前 : 新日铁化学株式会社
变更后 : 新日铁住金化学株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本东京
变更后 : 日本东京

2010-10-06 ：

授权

2008-05-21 ：

实质审查的生效

2008-03-26 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

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