光掩模充气柜结构
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及一种光掩模充气柜结构,尤指一种使得光掩模移转容器内部保持较佳洁净度的充气柜结构,其包含有一中空的柜体,且柜体内设有至少一供光掩模的移转容器定位放置的循环单元,该循环单元具有至少一充气元件与至少一排气元件,其中充气元件可选择性对密合的移转容器内部注入干净气体,而排气元件可将密合的移转容器内部的气体排出,使得该移转容器内部的气体形成进、出的流动状态,而能长时间维持移转容器内相邻光掩模环境的洁净度,以减少光掩模与光掩模护膜表面产生微粒附着与雾化等现象,进而提升储存光掩模的洁净度。

基本信息
专利标题 :
光掩模充气柜结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720127316.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-08-10
授权号 :
CN201134421Y
授权日 :
2008-10-15
发明人 :
廖莉雯
申请人 :
廖莉雯
申请人地址 :
中国台湾台北县
代理机构 :
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人 :
寿宁
优先权 :
CN200720127316.2
主分类号 :
H01L21/673
IPC分类号 :
H01L21/673  H01L21/677  G03F1/00  G03F7/20  B65D81/18  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/673
使用专用的载体的
法律状态
2014-10-08 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101587307911
IPC(主分类) : H01L 21/673
专利号 : ZL2007201273162
申请日 : 20070810
授权公告日 : 20081015
终止日期 : 20130810
2008-10-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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