本实用新型提供了用于对准半导体器件处理设备的系统和靶。本实用新型所要解决的技术问题是克服在衬底处理系统设置程序期间处理腔室和机械手之间，或者处理腔室之间的对准问题。在本实用新型的一些技术方案中，提供了一种用于对准半导体器件处理设备的系统。该系统包括对准架，该对准架具有基座、与该基座耦接的至少一个托架以及激光器，该激光器与该至少一个托架耦合并适于将光束投射到处理腔室中从而使得处理腔室对准。本实用新型提供了多种其他技术方案。本实用新型的技术效果是通过使用激光对准架和/或靶以更有效且更精确对准半导体器件处理设备。