晶圆对准方法、装置及半导体器件
实质审查的生效
摘要

本申请公开了一种晶圆对准方法、装置及半导体器件,方法包括:在出现对准失败时,从已采集的整个晶圆的平整度图中获取位于预设位置的曝光场内的平整度数据,预设位置的曝光场内包含多种类型的对准标记,且在使用预设类型的对准标记进行对准时出现对准失败;判定位于预设位置的曝光场内的平整度数据是否符合预设条件;若不符合预设条件,则从平整度图中读取位于预设位置的曝光场内除预设类型对准标记之外的其他类型对准标记,并从成功读取的其他类型的对准标记中选择一种其他类型的对准标记进行晶圆对准,以避免由于晶圆平整度图发生局部焦距异常,造成对准失败直接进行返工的问题,进而达到降低晶圆返工率的目的,降低生产成本。

基本信息
专利标题 :
晶圆对准方法、装置及半导体器件
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114384771A
申请号 :
CN202011142250.0
公开(公告)日 :
2022-04-22
申请日 :
2020-10-22
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
梁时元南兑浩贺晓彬刘强丁明正杨涛
申请人 :
中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
申请人地址 :
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 :
北京辰权知识产权代理有限公司
代理人 :
刘广达
优先权 :
CN202011142250.0
主分类号 :
G03F9/00
IPC分类号 :
G03F9/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位,例如自动地
法律状态
2022-05-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 9/00
申请日 : 20201022
2022-04-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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