探针诱导光刻薄膜
专利权的终止
摘要
一种用于探针诱导表面等离子体共振光刻的探针诱导光刻薄膜，特征在于其结构由沉积于玻璃基底上的直写光刻材料层、介质层和表面等离子体共振层组成，所述的直写光刻材料层由AgOx或NiOy组成；所述的介质层由SiO2组成；所述的表面等离子体共振层由Ag组成。采用磁控溅射的方法制备。本实用新型探针诱导光刻薄膜用于探针诱导表面等离子体共振光刻将大大降低刻蚀线宽。
基本信息
专利标题 ：
探针诱导光刻薄膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200820056586.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2008-03-26
授权号 ：
CN201174029Y
授权日 ：
2008-12-31
发明人 ：
李小刚洪小刚赵成强王阳徐文东唐晓东
申请人 ：
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 ：
201800上海市800－211邮政信箱
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN200820056586.3
主分类号 ：
G03F7/09
IPC分类号 ：
G03F7/09 G03F7/06 G03F7/075 G03F7/20 C23C14/35
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层
法律状态
2010-08-04 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101004356868
IPC(主分类) : G03F 7/09
专利号 : ZL2008200565863
申请日 : 20080326
授权公告日 : 20081231
号牌文件序号 : 101004356868
IPC(主分类) : G03F 7/09
专利号 : ZL2008200565863
申请日 : 20080326
授权公告日 : 20081231
2008-12-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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