具有多个屏蔽层的光掩模
授权
摘要
在一些实施例中，图案化的光刻胶具有多个屏蔽层。在一些实施例中，描述了用于掩模图案化的光掩模。光掩模包括位于透明层上方的相移层。光掩模还包括位于相移层上方的第一屏蔽层。第一屏蔽层具有第一厚度和第一光密度。光掩模还包括位于第一屏蔽层上方的第二屏蔽层。第二屏蔽层具有第二厚度和第二光密度。第二厚度小于第一薄度，并且第二光密度小于第一光密度。本发明实施例涉及具有多个屏蔽层的光掩模。
基本信息
专利标题 ：
具有多个屏蔽层的光掩模
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN107290929A
申请号 ：
CN201710191261.X
公开（公告）日 ：
2017-10-24
申请日 ：
2017-03-28
授权号 ：
CN107290929B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
涂志强陈俊郎
申请人 ：
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹
代理机构 ：
北京德恒律治知识产权代理有限公司
代理人 ：
章社杲
优先权 ：
CN201710191261.X
主分类号 ：
G03F1/76
IPC分类号 ：
G03F1/76
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/76
通过成像的掩膜的图案化
法律状态
2022-04-19 ：
授权
2019-02-26 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/76
申请日 : 20170328
申请日 : 20170328
2017-10-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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