抗蚀剂材料、光刻图案化方法和氧化物的用途
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摘要
一种抗蚀剂材料、光刻图案化方法以及氧化物的用途，所述抗蚀剂材料包括氧化物，所述氧化物包括选自由下列元素构成的组中的至少一种元素：Ta、Re、Os、Ir、Ni、Cu和Zn，其中，所述抗蚀剂材料对于具有小于11nm的波长的EUV光具有敏感性。
基本信息
专利标题 ：
抗蚀剂材料、光刻图案化方法和氧化物的用途
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN108594599A
申请号 ：
CN201810445598.3
公开（公告）日 ：
2018-09-28
申请日 ：
2012-05-30
授权号 ：
CN108594599B
授权日 ：
2022-04-22
发明人 ：
S·伍伊斯特尔A·亚库宁V·克里夫特苏恩
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张启程
优先权 ：
CN201810445598.3
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-04-22 ：
授权
2018-10-26 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20120530
申请日 : 20120530
2018-09-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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