一种晶圆处理装置和上下料方法
授权
摘要
本发明提供一种晶圆处理装置和上下料方法,处理装置包括:承载结构,所述承载结构包括设有识别标识的承载盘;检测结构,所述检测结构用于检测所述识别标识的位置信息;机械臂,所述机械臂用于从所述承载盘中拾取晶圆,或者将晶圆放置到所述承载盘中;控制结构,所述控制结构用于根据所述位置信息控制所述机械臂拾取或放置晶圆。根据本发明的晶圆处理装置,通过识别标识能够准确地识别承载盘或晶圆的位置,通过控制结构根据位置信息控制机械臂拾取或放置晶圆,从而实现晶圆的拾取、放置以使得晶圆得到转移,可以完成晶圆的上料或卸载,避免操作人员对硅片边缘造成磕碰,提高硅片的良率,减少人力资源的消耗,提高作业效率。
基本信息
专利标题 :
一种晶圆处理装置和上下料方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110767587A
申请号 :
CN201911000372.3
公开(公告)日 :
2020-02-07
申请日 :
2019-10-21
授权号 :
CN110767587B
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
李昀泽
申请人 :
西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请人地址 :
陕西省西安市高新区锦业路1号都市之门A座1323室
代理机构 :
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 :
许静
优先权 :
CN201911000372.3
主分类号 :
H01L21/677
IPC分类号 :
H01L21/677 H01L21/683
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/677
用于传送的,例如在不同的工作站之间
法律状态
2022-04-01 :
授权
2021-11-05 :
专利申请权、专利权的转移
专利申请权的转移IPC(主分类) : H01L 21/677
登记生效日 : 20211026
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 西安奕斯伟硅片技术有限公司
变更后权利人 : 西安奕斯伟材料科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 710065 陕西省西安市高新区锦业路1号都市之门A座1323室
变更后权利人 : 710000 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室
变更事项 : 申请人
变更后权利人 : 西安奕斯伟硅片技术有限公司
登记生效日 : 20211026
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 西安奕斯伟硅片技术有限公司
变更后权利人 : 西安奕斯伟材料科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 710065 陕西省西安市高新区锦业路1号都市之门A座1323室
变更后权利人 : 710000 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室
变更事项 : 申请人
变更后权利人 : 西安奕斯伟硅片技术有限公司
2020-03-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/677
申请日 : 20191021
申请日 : 20191021
2020-02-07 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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