支撑组件及采用该支撑组件的掩膜板支架
授权
摘要
本实用新型提供了一种支撑组件及采用该支撑组件的掩膜板支架，所述支撑组件包括基座、可移动设置在所述基座上的调节块；所述支撑组件还包括驱使所述调节块沿第一水平方向移动的第一调节机构、驱使所述调节块沿垂直于第一水平方向的第二水平方向移动的第二调节机构及用以将所述调节块锁定在所述基座上的锁紧机构。所述掩膜板支架包括前述支撑组件及顶销，所述调节块沿竖直方向开设有用以安装所述顶销的安装孔。所述支撑组件及掩膜板支架便于所述调节块与顶销的位置调节，提高工作效率，降低维护时间；还能够精确锁定调节块的位置，减小偏移，改善掩膜板取放过程中的卡顿现象，提高传入精度。
基本信息
专利标题 ：
支撑组件及采用该支撑组件的掩膜板支架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920414848.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-03-29
授权号 ：
CN209722281U
授权日 ：
2019-12-03
发明人 ：
司纪禹王宝友高峰
申请人 ：
昆山国显光电有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市开发区龙腾路1号4幢
代理机构 ：
北京华进京联知识产权代理有限公司
代理人 ：
哈达
优先权 ：
CN201920414848.7
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/04
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2019-12-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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