一种便于移动的物理气相沉积装置
专利权的终止
摘要
本实用新型提供一种便于移动的物理气相沉积装置,包括气相沉积箱,电源控制箱,转动箱盖,密封圈,卡接板,可存放挂接移动板结构,可转动卡接吸附观察板结构,可插接防滑调节座结构,第一连接管,连接座,磁控管,第二连接管,吊装座,连接杆和吊装环。本实用新型移动板,定向轮和万向轮的设置,有利于移动气相沉积箱,方便气相沉积箱在不同的位置进行工作,增加移动功能;观察箱门,观察片和气相沉积箱的设置,有利于观察气相沉积箱内部材料的加工过程,增加观察功能;支撑杆,调节管,翼形螺栓和放置板的设置,有利于调节放置板的高度,方便根据材料的加工需要进行调节工作。
基本信息
专利标题 :
一种便于移动的物理气相沉积装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920602098.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-29
授权号 :
CN210030871U
授权日 :
2020-02-07
发明人 :
黄先锋陈杰
申请人 :
天津欧亚西斯金属制品有限公司
申请人地址 :
天津市北辰区小淀镇刘安庄工业区佳景道18号
代理机构 :
北京久维律师事务所
代理人 :
邢江峰
优先权 :
CN201920602098.6
主分类号 :
C23C14/22
IPC分类号 :
C23C14/22 C23C14/52
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2022-04-12 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 14/22
申请日 : 20190429
授权公告日 : 20200207
终止日期 : 20210429
申请日 : 20190429
授权公告日 : 20200207
终止日期 : 20210429
2020-02-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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