一种半导体刻蚀设备腔室的清洗机构
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摘要

一种半导体刻蚀设备腔室的清洗机构,涉及半导体刻蚀设备清洗技术领域,该半导体刻蚀设备腔室的清洗机构,包括电机,所述电机输出轴固定连接有连接器,所述连接器远离电机的一端固定安装有丝杆,所述丝杆的表面套接有滑块,所述滑块的底端固定安装有伸缩杆,所述伸缩杆的底端固定连接有清洁刷,所述丝杆远离电机的一端套接有固定支座,该半导体刻蚀设备腔室的清洗机构,一方面,通过压力泵能够使刻蚀腔室内的气体排出,通过排气口和排气管能够有效的使刻蚀腔室内部与外部形成压力差,提高了刻蚀腔室内气体排出的效率,另一方面,通过吹风机提高了刻蚀腔室内部排气的强度,使刻蚀腔室内部的碎屑更容易被清理出去。

基本信息
专利标题 :
一种半导体刻蚀设备腔室的清洗机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920886686.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-13
授权号 :
CN210730444U
授权日 :
2020-06-12
发明人 :
廖海涛
申请人 :
江苏邑文微电子科技有限公司
申请人地址 :
江苏省南通市如东县掘港街道金山路1号
代理机构 :
北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
施荣华
优先权 :
CN201920886686.7
主分类号 :
B08B9/087
IPC分类号 :
B08B9/087  B08B9/093  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B9/00
用专门的方法或设备清洁空心物品
B08B9/08
清洗容器,如槽的清洗
B08B9/087
包括使用工具,如刷子、刮刀的方法的
法律状态
2020-06-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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