一种测量刻蚀机反应腔室漏率的方法
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明涉及半导体刻蚀领域，本发明提供了一种测量刻蚀机反应腔室漏率的方法，本发明的方法建立了一个数据表，该数据表保存了各种反应腔室的类型对应的气压稳定时间和测量间隔时间数据，漏率检测程序启动后，自动检测反应腔室类型，并根据数据表中的数据，设定相应的气压稳定时间和测量间隔时间，本发明的技术方案能适用于各种不同类型的反应腔室，并且测试过程全部由计算机完成，使使用者能便捷的获得漏率值。
基本信息
专利标题 ：
一种测量刻蚀机反应腔室漏率的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1847814A
申请号 ：
CN200510126447.4
公开（公告）日 ：
2006-10-18
申请日 ：
2005-12-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张京华
申请人 ：
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请人地址 ：
100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号
代理机构 ：
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 ：
王常风
优先权 ：
CN200510126447.4
主分类号 ：
G01M3/26
IPC分类号 ：
G01M3/26 G01M3/32
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试；其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/26
通过测量流体的增减速率，例如，用压力响应装置，用流量计
法律状态
2009-01-28 ：
发明专利申请公布后的驳回
2006-12-13 ：
实质审查的生效
2006-10-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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