用于减少等离子体蚀刻腔室中的污染的设备
授权
摘要
本文提供用于在基板支撑件中使用的工艺配件部件的实施方式以及结合有所述实施方式的基板支撑件。在一些实施方式中，所述基板支撑件可以包括：主体；接地外壳，所述接地外壳由围绕所述主体设置的导电材料形成；衬里，所述衬里由围绕所述接地外壳设置的导电材料形成，其中所述衬里包括朝向所述主体向内延伸的上唇缘；金属紧固件，所述金属紧固件穿过所述上唇缘设置以将所述衬里耦接到所述接地外壳；以及第一绝缘体环，所述第一绝缘体环设置在所述衬里的所述上唇缘顶上并覆盖所述金属紧固件。
基本信息
专利标题 ：
用于减少等离子体蚀刻腔室中的污染的设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920905971.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-17
授权号 ：
CN210110704U
授权日 ：
2020-02-21
发明人 ：
X·常A·恩古耶
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
侯颖媖
优先权 ：
CN201920905971.9
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 H01L21/67 H01L21/683 H01L21/687
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2020-02-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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