用于等离子体蚀刻机器的气体分布电极
专利权的终止
摘要
一种用于等离子体蚀刻机器的气体分布(gasdistribution)电极，包括多个设置于该气体分布电极第一表面的凹部，以及多个设置于该些凹部周边的通孔。每一该些通孔由该气体分布电极的第一表面延伸至相对应的第二表面。本发明还涉及采用上述气体分布电极的等离子体蚀刻机器。
基本信息
专利标题 ：
用于等离子体蚀刻机器的气体分布电极
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1758825A
申请号 ：
CN200510108808.2
公开（公告）日 ：
2006-04-12
申请日 ：
2005-09-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
洪健雄曾崇豪陈滢如王亮为
申请人 ：
友达光电股份有限公司
申请人地址 ：
台湾新竹市
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陶凤波
优先权 ：
CN200510108808.2
主分类号 ：
H05H1/24
IPC分类号 ：
H05H1/24 H05H1/00 H01L21/00
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法律状态
2021-09-14 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H05H 1/24
申请日 : 20050930
授权公告日 : 20071212
终止日期 : 20200930
申请日 : 20050930
授权公告日 : 20071212
终止日期 : 20200930
2007-12-12 ：
授权
2006-06-07 ：
实质审查的生效
2006-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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