本实用新型公开一种改进气体分布的等离子蚀刻设备，包括真空箱体，真空箱体内部形成真空腔室，真空腔室内设置有多块电极，多块电极相互平行且沿竖直方向设置，真空腔室顶部两侧对称地设置有第一气体主气管、第二气体主气管，第一气体主气管、第二气体主气管沿水平方向设置；真空箱体的顶部设置有第一进气口、第二进气口，反应气体由第一进气口、第二进气口分别进入第一气体主气管、第二气体主气管内，流经第一气体通道和第二气体通道后由第一气体主气管、第二气体主气管流出，输送至真空腔室内。本实用新型结构简单、安装维修简单、成本低，气体进气方式分布均匀，改善了气体在等离子蚀刻设备从外界到电极的分布均匀性。