反应离子刻蚀机及其气体分配装置
授权
摘要
一种气体分配装置及反应离子刻蚀机，该气体分配装置的底座具有气体分配槽，气体可从进气孔进入到气体分配槽。覆盖在气体分配槽上敞开一侧的网片对气体形成阻力，令气体不能轻易从气体分配槽敞开一侧喷出，逼迫大部分气体分流到气体分配槽内，流向气体分配槽的各处。由于气体不断涌入，流入的气体流量比流出的大，因此由气体分配槽与网片形成的增压室内气压上升，并使得增压室内气体逐渐形成相同压强，保证气体均匀分布。增压室内气体压强上升至一定程度，可从网片的网状孔隙内排出，均匀的进入到排气板的出气孔中，然后再均匀的排入至反应腔内，提高刻蚀的均匀性。
基本信息
专利标题 ：
反应离子刻蚀机及其气体分配装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920972362.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-26
授权号 ：
CN209880536U
授权日 ：
2019-12-31
发明人 ：
谭志明
申请人 ：
华智科技（国际）有限公司
申请人地址 ：
中国香港新界沙田火炭坳背湾街2-12号威力工业中心11楼R室
代理机构 ：
深圳鼎合诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
胥强
优先权 ：
CN201920972362.5
主分类号 ：
H01J37/305
IPC分类号 ：
H01J37/305 H01J37/30
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/30
物体局部处理用的电子束管或离子束管
H01J37/305
用于浇铸、熔化、蒸发或浸蚀的
法律状态
2019-12-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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