基板支撑组件和处理腔室
授权
摘要
本文所述的实施方式一般涉及基板支撑组件和处理腔室。在一个实施方式中，一种基板支撑组件包括：基部；以及ESC，所述ESC具有设置在所述基部之上的多个二极管。所述二极管提供快速开关速度，从而实现快速吸紧和松脱操作。
基本信息
专利标题 ：
基板支撑组件和处理腔室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921006040.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-28
授权号 ：
CN210123727U
授权日 ：
2020-03-03
发明人 ：
麦特斯·拉尔森
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN201921006040.1
主分类号 ：
H01L21/683
IPC分类号 ：
H01L21/683 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2020-03-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
