一种用于旋转靶绑定的水冷环装置
授权
摘要
本实用新型一种用于旋转靶绑定的水冷环装置，包括水循环装置和水冷环，水冷环包括环体，环体内设置有中空的储水腔，储水腔贯穿于整个环体的内侧，环体的底面设置有多个喷水孔，喷水孔连接于储水腔，环体的侧面设置有进水部，进水部为一中空管体，进水部的一端连接于储水腔，进水部的另一端连接水循环装置。本实用新型的水冷环装置能对旋转靶的靶材管进行均匀降温，减短生产时间，提高生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种用于旋转靶绑定的水冷环装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921362149.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-21
授权号 ：
CN210796610U
授权日 ：
2020-06-19
发明人 ：
陈明恒
申请人 ：
东莞市欧莱溅射靶材有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市厚街镇汀山村汀山路121号
代理机构 ：
北京天盾知识产权代理有限公司
代理人 ：
李少欢
优先权 ：
CN201921362149.9
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 F25D17/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-06-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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