一种单晶硅生长装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种单晶硅生长装置,包括炉体,所述炉体内的相对侧壁上均固定有上固定块和下固定块,所述炉体内的底部固定有炉底护盘,所述炉底护盘的上端固定有石墨碳毡,且石墨碳毡位于下固定块的下端,所述上固定块的下端固定有上保温罩,所述下固定块的上端固定有下保温罩,所述上保温罩和下保温罩之间共同固定有中保温罩。本实用新型通过L型夹持板、坩埚托盘和连接块之间的配合,实现了能对不同大小的坩埚进行夹持的功能,提高了坩埚加热时的稳定性,保证了单晶硅的生长速度和质量,节约了时间,适用范围广,操作简单,大大减少了晶体的缺陷。

基本信息
专利标题 :
一种单晶硅生长装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921541289.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-17
授权号 :
CN210683991U
授权日 :
2020-06-05
发明人 :
王志辉
申请人 :
大同新成新材料股份有限公司
申请人地址 :
山西省大同市新荣区花园屯村
代理机构 :
北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
申绍中
优先权 :
CN201921541289.2
主分类号 :
C30B15/00
IPC分类号 :
C30B15/00  C30B29/06  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B15/00
熔融液提拉法的单晶生长,例如Czochralski法
法律状态
2020-06-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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