一种真空反应室用底部支撑结构

授权

摘要

本实用新型公开了一种真空反应室用底部支撑结构，包括支撑台面和固定杆，所述固定杆竖向安装在支撑台面左后角上端外壁上，所述固定杆和支撑台面通过螺母固定连接，通过在该真空反应室用底部支撑结构的支撑台面上增加有一个新型的拉力加固装置，而当真空室罐体的底部固定到支撑台面上的支撑固定圈内部后，此时通过该新型的拉力加固装置能够对安装好的真空室罐体起到固定加持的作用，拉力加固装置通过两个固定环闭合固定在真空室罐体外壁上后，又通过两个橡胶拉力绳的拉力作用对固定好的真空室罐体产生向下的拉力，从而对固定的真空室罐体起到加固作用，防止真空室罐体在使用时产生晃动的情况发生，保证整个真空室能够正常且稳定的工作。

基本信息

专利标题：

一种真空反应室用底部支撑结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921555555.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-09-18

授权号：

CN210920658U

授权日：

2020-07-03

发明人：

王浩明陈永萍张莉张广德

申请人：

苏州子山半导体科技有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市工业园区唯新路69号一能科技园5幢102室

代理机构：

苏州国卓知识产权代理有限公司

代理人：

薛芳芳

优先权：

CN201921555555.7

主分类号：

F16M11/04

IPC分类号：

F16M11/04 F16M11/22