一种具有防护结构的砷化镓外延用基片
授权
摘要
本实用新型公开了一种具有防护结构的砷化镓外延用基片，包括主体和置物板，所述主体的外壁活动设置有疏水膜，且疏水膜的底部活动安置有限位机构，所述置物板连接于限位机构的底部，且置物板的内部设置有固定机构，所述疏水膜的外壁安置有警示条，且警示条的外壁两侧设置有透明膜。该具有防护结构的砷化镓外延用基片设置有主体，支撑柱与连接板之间为固定连接，使得支撑柱长时间在装置上使用时，连接板可保持高强度连接性连接于支撑柱之上，提高连接板与支撑柱之间的连接强度，防止支撑柱无故从连接板上脱落，同时连接板通过凸块与凹槽构成卡和连接，使得装置在使用时，使用者可根据装置的使用环境，将连接板通过凸块卡入置物板上的凹槽内。
基本信息
专利标题 ：
一种具有防护结构的砷化镓外延用基片
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921641449.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-29
授权号 ：
CN211208401U
授权日 ：
2020-08-07
发明人 ：
李焕法
申请人 ：
恒簇光电技术（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市金山区亭林镇寺平南路19号3幢4423室
代理机构 ：
合肥市科融知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
晋圣智
优先权 ：
CN201921641449.0
主分类号 ：
H01L21/673
IPC分类号 ：
H01L21/673
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/673
使用专用的载体的
法律状态
2020-08-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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