氮化镓外延结构
授权
摘要

本实用新型公开了一种氮化镓外延结构,其包括:氮化镓衬底、设置在氮化镓衬底上的氮化镓成核层、覆盖在氮化镓成核层上的致密氮化镓层以及设置在致密氮化镓层上的氮化镓外延层;其中,所述氮化镓衬底表面分布有多个凹陷部,多个所述凹陷部在氮化镓衬底表面的分布位置与所述氮化镓衬底的表面缺陷分布位置相对应。较之现有技术,本实用新型提供的氮化镓外延结构易于制作,生产效率高,其中氮化镓外延层的质量有明显提升,利于大规模生产和应用。

基本信息
专利标题 :
氮化镓外延结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122942896.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-26
授权号 :
CN216624314U
授权日 :
2022-05-27
发明人 :
徐琳
申请人 :
苏州纳维科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区20幢518室
代理机构 :
南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
王锋
优先权 :
CN202122942896.3
主分类号 :
H01L33/20
IPC分类号 :
H01L33/20  H01L33/32  H01L33/00  
法律状态
2022-05-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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