一种基于X射线衍射分析的助熔剂添加控制系统
授权
摘要

本实用新型公开的一种基于X射线衍射分析的助熔剂添加控制系统,属于煤气化控制技术领域。包括煤灰取样器、煤灰进样器、X射线衍射仪、X射线衍射图谱分析仪、服务器和助熔剂进料器;煤灰取样器取样后通过煤灰进样器制样送入X射线衍射仪进行在线检测生成X射线衍射图谱,采用X射线衍射图谱分析仪对得到的X射线衍射图谱进行分析,服务器根据分析得到的数据实时生成助熔剂添加量调整策略,助熔剂进料器根据服务器所传输的助熔剂添加量调整策略确定助熔剂进料量进行添加,可实现助熔剂添加的在线实时控制,实现气化炉膜式水冷壁上正常的挂渣,保证气化炉长周期安全平稳运行,适用范围广,适于大规模推广。

基本信息
专利标题 :
一种基于X射线衍射分析的助熔剂添加控制系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921835193.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-29
授权号 :
CN210953876U
授权日 :
2020-07-07
发明人 :
刘蓉王晓龙郜时旺王琪肖天存
申请人 :
中国华能集团有限公司;中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司
申请人地址 :
北京市西城区复兴门内大街6号
代理机构 :
西安通大专利代理有限责任公司
代理人 :
孟大帅
优先权 :
CN201921835193.7
主分类号 :
G01N23/207
IPC分类号 :
G01N23/207  G01N23/2055  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/20
利用材料辐射的衍射,例如,用于测试晶体结构;利用材料辐射的散射,例如测试非晶材料;利用材料辐射的反射
G01N23/207
衍射,例如,利用处于中心位置的探针以及安放在周围的一个或多个可移动的检测器
法律状态
2020-07-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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