一种多腔室沉积金刚石薄膜装置结构
授权
摘要
本实用新型涉及真空镀膜技术领域，且公开了一种多腔室沉积金刚石薄膜装置结构，包括金刚石薄膜沉积室A，所述金刚石薄膜沉积室A的右侧设置有沉积室B，所述沉积室B的右侧设置有沉积室C，所述沉积室C的右侧设置有沉积室D，所述金刚石薄膜沉积室A、沉积室B、沉积室C和沉积室D内均设置有基片台，每个所述基片台上均设置有加热源，每个所述基片台的上方和下方均设置有加热电极。本方案的真空镀膜的多腔室金刚石薄膜沉积装置结构，通过共用抽气系统、流量计、控制系统等，可以独立或者同时生长金刚石薄膜，并根据需要分时或同时开启A‑D沉积室，从而使金刚石薄膜沉积效率更高、成本更低。
基本信息
专利标题 ：
一种多腔室沉积金刚石薄膜装置结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921871793.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-02
授权号 ：
CN210596250U
授权日 ：
2020-05-22
发明人 ：
邹杨孙蕾邹松东
申请人 ：
洛阳奥尔材料科技有限公司
申请人地址 ：
河南省洛阳市涧西区浅井头一街坊7幢2-402室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921871793.9
主分类号 ：
C23C16/27
IPC分类号 ：
C23C16/27 C23C16/54 C23C14/06 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/26
仅沉积碳
C23C16/27
仅沉积金刚石
法律状态
2020-05-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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