一种连续沉积金刚石薄膜设备
授权
摘要
本实用新型涉及一种连续沉积金刚石薄膜设备。包括预沉积室、沉积室、制品待取室及将预沉积室的基片从所述预沉积室依次传输至沉积室、制品待取室的基片传输装置，其中，所述预沉积室、沉积室、制品待取室依次设置且依次连接，预沉积室内充入基片沉积时所需气氛气体，在所述沉积室内当前热丝结构的作用下，依次对进入所述沉积室的多批次基片进行金刚石薄膜沉积，实现了在不更换热丝结构的前提下，多次金刚石膜的沉积，避免了现有技术中由于热丝消耗和中间更换热丝所导致的成本非必要提高问题，有利于金刚石薄膜的推广。
基本信息
专利标题 ：
一种连续沉积金刚石薄膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020739466.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-08
授权号 ：
CN212293743U
授权日 ：
2021-01-05
发明人 ：
玄真武李勇张怡何敬晖
申请人 ：
中材人工晶体研究院有限公司;北京中材人工晶体研究院有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区东坝红松园1号
代理机构 ：
北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
赵奕
优先权 ：
CN202020739466.4
主分类号 ：
C23C16/54
IPC分类号 ：
C23C16/54 C23C16/27
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/54
连续镀覆的专用设备
法律状态
2021-01-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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