液相电沉积制备类金刚石薄膜的方法，属于类金刚石薄膜制备技术领域。采用二甲亚砜为电解液。电解电压为50～500V的高频脉冲直流电压。沉积温度在50～90℃；沉积过程中，汽化的电解液通过冷凝回流回到沉积池中。沉积前，基底选用硅片，先后经过在丙酮中超声处理、在氢氟酸溶液中浸泡处理；沉积中，采用高纯石墨为阳极，以经处理的基底硅片为阴极，两极间距设置为7mm。由于选用了介电常数较高和偶极距较大的二甲亚砜为电解液，在较低的电压下制备出了类金刚石薄膜。该方法不仅设备简单，沉积温度低，在平整表面和不规则表面均能较大面积成膜，而且电解电压得到了显著的降低，成膜均匀性好，易于实现工业化，应用前景好。