一种真空镀膜机的真空测量结构
授权
摘要
为了解决现有的真空镀膜机的腔室与真空计的直通式连接带来的容易污染真空计的问题，本实用新型提出一种真空镀膜机的真空测量结构，其包括：真空腔室1、抽真空模组2、和检测管，其中抽真空模组2包括真空计5，真空腔室1的上部设有排气口，检测管的进气口91与真空腔室1上部的排气口固定连接，检测管的出气口92与真空计5连接，其特征在于：抽真空模组2还包括磁流体密封9，检测管位于磁流体密封9的内部，检测管内部设有滤网93，滤网93的数量≥2，且多层滤网93平行分布。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜机的真空测量结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922254121.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-16
授权号 ：
CN212378954U
授权日 ：
2021-01-19
发明人 ：
吴伟亮冯刚邓永琪汪毅梁海洋李章雄
申请人 ：
苏州星蓝纳米技术有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区亭南路70号
代理机构 ：
江苏昆成律师事务所
代理人 ：
刘尚轲
优先权 ：
CN201922254121.X
主分类号 ：
G01L21/00
IPC分类号 ：
G01L21/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01L
测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力
G01L21/00
真空计
法律状态
2021-01-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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