一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备
专利权的终止
摘要
本实用新型属于离子溅射仪技术领域且公开了一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备，包括支撑台面、升降杆和框架，所述支撑台面底部连接升降杆顶部；所述升降杆包括第一支杆、第二支杆和横杆；所述第一支杆与第二支杆连接；所述第一支杆之间设有横杆；所述第二支杆之间设有横杆；所述升降杆通过连接轴连接液压杆。本实用新型通过该升降工作台通过支杆来提供支撑力，液压杆提供固定作用，降低支杆部分承重，延长使用寿命，将工作台停留在任意高度，结构简单，成本较低；采用X型升降机构，锁紧位置，使用安全，结构简单、高度调节方便。
基本信息
专利标题 ：
一种用于离子溅射仪的可调式支撑设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922317965.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-22
授权号 ：
CN211367712U
授权日 ：
2020-08-28
发明人 ：
庄为
申请人 ：
湖南纳微新材料科技有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市岳麓区岳麓街道溁左路中南大学科技园研发总部1栋179房
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922317965.4
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/54 C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-12-03 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 14/50
申请日 : 20191222
授权公告日 : 20200828
终止日期 : 20201222
申请日 : 20191222
授权公告日 : 20200828
终止日期 : 20201222
2020-08-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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