一种离子溅射装置

授权

摘要

本实用新型公开了一种离子溅射装置，包括加工箱、等离子发射器和偏转电磁线圈，所述加工箱的前表面通过合页铰接有密封门，且加工箱的一侧固定连接有等离子发射器，所述加工箱内部的底端固定连接有托盘，且加工箱内部靠近托盘的一侧固定连接有辅助离子发射器，所述加工箱内部靠近托盘的下侧固定连接有偏转电磁线圈，本实用新型涉及涂层生产技术领域。该离子溅射装置中的夹持器可以在电机的带动下进行运动，从而可以增大夹持器中的构件在装置内部的运动范围，从而可以让构件上镀膜更加均匀，可以提高装置的镀膜质量，从而可以提高产品的质量，惰性气体罐与固定箱之间设置有定位结构，可以提高安装惰性气体罐时的准确度。

基本信息

专利标题：

一种离子溅射装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922386645.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-27

授权号：

CN211445886U

授权日：

2020-09-08

发明人：

林宪柱王海涛

申请人：

龙口博源新科金属涂层有限公司

申请人地址：

山东省烟台市龙口市高新技术产业园区通海路南段

代理机构：

亳州速诚知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

张辉

优先权：

CN201922386645.4

主分类号：

C23C14/35

IPC分类号：

C23C14/35