一种离子溅射仪喷涂控制装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种离子溅射仪喷涂控制装置，包括离子溅射仪本体、喷金筒、盖板、视窗筒和视窗镜，视窗筒上设置有第一按钮和第二按钮，视窗镜活动设置在视窗筒一端，视窗筒另一端伸入圆孔连接喷金筒，喷金筒活动设置在离子溅射仪本体上，盖板活动设置在喷金筒顶部，离子溅射仪本体上还设置有位于喷金筒内部的样品架，样品架包括底板、第一电机、第二电机、传动带、连接柱和样品盘，第一按钮和第二按钮分别与第一电机和第二电机电连接；本实用新型可帮助人员实现后期在使用离子溅射仪喷金时实时观察调整样品摆放状态，实现更好的喷涂。
基本信息
专利标题 ：
一种离子溅射仪喷涂控制装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921803772.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-24
授权号 ：
CN210560718U
授权日 ：
2020-05-19
发明人 ：
何超周密秦家强
申请人 ：
四川大学
申请人地址 ：
四川省成都市一环路南一段24号
代理机构 ：
成都正华专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
郭艳艳
优先权 ：
CN201921803772.3
主分类号 ：
C23C14/46
IPC分类号 ：
C23C14/46 C23C14/14 C23C14/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/46
用外部离子源产生的离子束法
法律状态
2020-05-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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