一种溅射离子泵
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摘要
一种新型溅射离子泵结构，属于真空电子设备领域。其包括：一真空容器，该真空容器里加正电位的阳极(例如金属圆筒)壁上至少有一个孔。被抽真空的气体分子可穿过孔，避免从部件间隔绕行，快速直接地进入阳极筒体，提高与筒内的高速自由电子碰撞几率和速度，弹入阴极被掩埋，缩短了抽真空时间。这种结构呈现出比无孔阳极的溅射离子泵具有更高的抽气速率和抽真空效率。
基本信息
专利标题 ：
一种溅射离子泵
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922445981.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-31
授权号 ：
CN211125571U
授权日 ：
2020-07-28
发明人 ：
费宗莲
申请人 ：
费宗莲
申请人地址 ：
北京市西城区北礼士路60号楼406号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922445981.1
主分类号 ：
H01J41/12
IPC分类号 ：
H01J41/12
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J41/00
测量充入气体压强的放电管和装置；由离子扩散抽气的放电管
H01J41/12
由离子扩散抽气的放电管，如用离子泵、消气剂离子泵的
法律状态
2020-07-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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