一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统
授权
摘要
本实用新型是一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统，其结构包括摆动轴和安装在摆动轴顶端的刷臂，刷臂传动连接刷洗本体，刷洗本体下方为真空吸盘，真空吸盘底面连接旋转马达活动端，真空吸盘顶面上放置晶元，控制器分别与刷臂、刷洗本体及旋转马达信号连接。本实用新型的优点：结构合计合理，工作时，电磁线圈通过控制器得电产生磁力，称重模块获取压力，并反馈给控制器，控制器通过预设算法控制电磁线圈磁体电流强度，使刷头得到一个设定的压力。实现有效对电磁式晶元刷洗机刷洗压力进行稳定控制，提高了生产质量，改善了电磁式晶元刷洗机的使用效果。
基本信息
专利标题 ：
一种电磁式晶元刷洗机刷洗压力控制系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922389464.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-27
授权号 ：
CN211017024U
授权日 ：
2020-07-14
发明人 ：
夏俊东莫科伟谭金辉康雷雷
申请人 ：
吉姆西半导体科技（无锡）有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市锡山区锡北镇泾虹路58号优谷企业园45号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922389464.7
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-07-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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