本实用新型涉及一种高纯硅片自动清洗装置，包括控制单元、清洗槽、超声波发生器，清洗槽底部固定设有换能器，超声波发生器与换能器信号连接，控制单元与超声波发生器信号连接；还包括冷水水路、热水水路，冷水水路一端、热水水路一端均连通清洗槽，其另一端分别连接冷水源、热水源；还包括排污管，排污管的开口设置在清洗槽的下部；冷水水路、热水水路、排污管中分别设有电磁阀，电磁阀与控制单元信号连接；清洗槽内设有高低液位开关，高低液位开关与控制单元信号连接；排污管中设有排污泵，排污泵由控制单元信号控制。本实用新型其能实现自动清洗，解决了人工成本高、人员劳动强度大的问题，防止超声波对人员造成伤害，清洗效果好。